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纯水在光学领域中的重要作用日益突出，光学领域的相关业务需求也正在飞速发展，触摸屏，显像管，半导体等等很多行业在国内已经量化生产，对纯水设备的需求同步也普及化。

纯水水质已成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，水质要求也越来越高。在生产中，超纯水主要是为了用做相关清洗及有关生产过程中的原材料配制。不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。

清洗是指清除工件表面上液体和固体的污染物，使工件表面达到一定的洁净程度。清洗过程是清洗介质、污染物、工件表面三者之间相互作用，是一种复杂的物理过程，清洗不仅与污染的性质、种类、型态以及粘附程度有关。与清洗介质的理化性质、清洗性能、工件的材质、表面状态有关、还与清洗的条件如温度、压力以及附加的超声振动、机械振动等因素有关。

清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂甫碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，因此，其生产原材料中一部分需要超纯水进行配制，在显象管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含奇有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。

黑白显象管荧光屏生产：
在黑白显象管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个晶体管需用纯水80Kg。液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。
晶体管、集成电路生产：
晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，V族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒（包括细菌）如吸咐在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。因此纯水系统/纯水的使用在电子工业中是着无可替代的。